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Hysteresis in Aluminum Oxides Films Growth with Pulsed Reactive Sputtering
铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究
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与反应溅射和反应沉积相比，此法制备的氧化相膜与玻璃基体的附着良好，并因高的注入能量而改善了玻璃表面硬度。
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Structure and Properties of ZnO Films Prepared by Ion Beam Reactive Sputtering
反应溅射氧化锌薄膜的结构特点及性质
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DC Reactive Sputtering Process for Al_2O_3 Film Deposition and Its Applications
直流反应溅射Al2O3膜工艺探讨及应用
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Deposition technology and properties of chromium oxide coatings by RF reactive sputtering
射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能
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Influence of Nitrogen Partial Pressure on Zirconium Nitride Films Grown by DC Reactive Sputtering
直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响
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Growth Process of Preferential Orientation of AlN Thin Films by Magnetron Reactive Sputtering
磁控溅射氮化铝薄膜取向生长工艺研究
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磁控反应溅射镀膜设备充气系统设计的几个问题
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Preparation Process of Y_2O_3 Thin Film Using RF Magnetron Reactive Sputtering
射频磁控反应溅射法制备Y2O3薄膜的工艺研究
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The aging procedure in amorphous alumina film fabricated by reactive sputtering
反应溅射制备的a-Al2O3薄膜中的时效过程
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Dielectric Characteristics of Amorphous Alumina Film Fabricated by Reactive Sputtering
反应溅射制备非晶Al2O3薄膜的介电特性
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Silicon dioxide thin films were prepared by reactive RF magnetron sputtering on silicon substrate.
采用磁控射频反应溅射法在单晶硅片上制备了二氧化硅薄膜.
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第五章研究了直流磁控溅射制备Sb掺杂 TiO2的成膜特点.
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鉴于磁控溅射作为一种高速、低温、低损伤的十分有效的薄膜沉积方法，我们选择射频反应磁控溅射法制备A1203薄膜，从理论和实验上研究了Al203薄膜的制备和性能。
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Preparation and Properties of Al_2O_3 Barrier Layers for LCD by RF Reactive Sputtering
用于LCD的氧化铝阻挡层的射频反应溅射沉积及其特性
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Study of Processing and Properties of AIN Films Prepared by Magnetron Reactive Sputtering
磁控反应溅射AIN薄膜的制备工艺与性能研究
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Carbon Nitride Films Prepared by Reactive Sputtering and Their Structural Analysis
射频溅射制备碳氮薄膜及其结构分析
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Research for Technique of Large-area Indium-Tin Oxide Film by Magnetron Reactive Sputtering Method
磁控反应溅射制备大面积掺锡氧化铟薄膜工艺探讨
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The Electrochromic Properties of Nickel Oxide Films Prepared by Magnetron reactive Sputtering
磁控反应溅射氧化镍薄膜电致变色特性的研究
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